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LAPPING後清洗機( PLC)LAPPING後清洗機( PLC)
用於(yu)矽片(pian)LAPPING後(hou)倒(dao)角(jiao)前的清洗(xi),去除前序(xu)留下的大顆(ke)粒、Slurry等,根(gen)據(ju)客戶需(xu)求,定製工藝流(liu)程,達到預(yu)期潔淨度。

LAPPING後清洗機( PLC)

線切割後清洗機(PSC)線切割後清洗機(PSC)
用於矽(xi)片剝(bo)離後倒角前(qian)的清洗,去除前序留下的大顆粒,有機物(wu)等(deng),根據客(ke)戶需求定製工藝流程(cheng),達到預期潔(jie)淨度。

線切割後清洗機(PSC)

邊拋後清洗機(EPC)邊拋後清洗機(EPC)
用於邊緣拋光後的清洗,去(qu)除(chu)拋光帶(dai)來的顆粒(li)、有機物及金(jin)屬(shu),根據客戶需求(qiu),定製工藝流程,達到預期潔淨(jing)度(du)。

邊拋後清洗機(EPC)

混合腐蝕機(Hybrid Etcher)混合腐蝕機(Hybrid Etcher)
用(yong)於Lapping後的矽片腐蝕,用酸液(ye)和(he)堿(jian)液對(dui)矽片表(biao)麵(mian)進行均(jun)一(yi)可控(kong)的腐(fu)蝕,已改(gai)善其(qi)TTV表現,根據客戶需求,可(ke)兼(jian)備(bei)一定的清洗功(gong)能。

混合腐蝕機(Hybrid Etcher)

爐前清洗(HTC)爐前清洗(HTC)
用於矽片退火前的清洗,去除前序留(liu)下的顆粒、有機物等,根據客戶需求,定(ding)製工藝流程,達到預期潔淨度。

爐前清洗(HTC)

去蠟清洗(De-Wax Cleaner)去蠟清洗(De-Wax Cleaner)
用於矽片去蠟(la)的清洗,去除矽片拋(pao)光(guang)背部(bu)的蠟層,達(da)到工藝需求。

去蠟清洗(De-Wax Cleaner)

最終清洗機最終清洗機
用於矽片最終(zhong)出(chu)貨前的清洗,根據客戶需求進(jin)行(xing)槽體工藝流程的定製,以滿足(zu)金屬、顆粒、產量等條(tiao)件。

最終清洗機

雙麵拋光後清洗機(DSPC)雙麵拋光後清洗機(DSPC)
用於雙(shuang)麵拋光後的清洗,去除雙麵拋光帶來(lai)的顆粒、有機物和金屬,為終清洗作準備,根據客戶需求,定製工藝流程,達到預期潔淨度。

雙麵拋光後清洗機(DSPC)

堿腐蝕機(Alkali Etcher)堿腐蝕機(Alkali Etcher)
用於Lapping後的矽片腐蝕,用堿液對矽片表麵進行均一可控的腐蝕(shi),已(yi)改善其TTV表現(xian),根據客戶需求,可兼備一定的清洗功能。

堿腐蝕機(Alkali Etcher)

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LAPPING後清洗機( PLC)

用於矽片LAPPING後倒角前的清洗,去除前序留下的大顆粒、Slurry等,根據客戶需求,定製工藝流程,達到預期潔淨度。
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產品編號
數量
-
+
庫存:
0
產品描述
參數

產(chan)品(pin)規(gui)格:

1、適用範圍(wei):8寸(cun)&12寸(cun)矽片
2、工(gong)藝(yi)流程:槽(cao)式(shi)批次(ci)清洗,客戶(hu)定製(zhi);
3、產能(neng):依據工藝流程;
4、搬運(yun)方式:PFA cassette & cassette less;
5、設備通訊:SECS/GEM ;

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