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LAPPING後清洗機( PLC)LAPPING後清洗機( PLC)
用於(yu)矽片(pian)LAPPING後倒角前(qian)的清洗(xi),去除前序留下的(de)大(da)顆(ke)粒、Slurry等,根(gen)據客戶需求,定製工藝流程,達(da)到(dao)預期潔淨度。

LAPPING後清洗機( PLC)

線切割後清洗機(PSC)線切割後清洗機(PSC)
用於矽片剝(bo)離後(hou)倒角前的清洗,去除(chu)前序(xu)留下(xia)的大顆粒,有(you)機物(wu)等(deng),根據客戶需求定(ding)製工藝流程,達到預期潔淨度。

線切割後清洗機(PSC)

邊拋後清洗機(EPC)邊拋後清洗機(EPC)
用於邊(bian)緣(yuan)拋光後的清洗,去除拋(pao)光(guang)帶來的顆粒(li)、有機物及金(jin)屬,根據客戶需(xu)求,定製工藝流程,達到預(yu)期潔(jie)淨度(du)。

邊拋後清洗機(EPC)

混合腐蝕機(Hybrid Etcher)混合腐蝕機(Hybrid Etcher)
用於Lapping後的矽片腐蝕,用酸液(ye)和堿液對(dui)矽片表麵進行均一可控的腐蝕,已改善其TTV表現(xian),根據客戶需求,可兼(jian)備一(yi)定的清洗功能(neng)。

混合腐蝕機(Hybrid Etcher)

爐前清洗(HTC)爐前清洗(HTC)
用於矽片退火前的清洗,去(qu)除前序留(liu)下的顆粒、有機物等,根據客戶需求(qiu),定製工藝流程,達到預期潔淨(jing)度。

爐前清洗(HTC)

去蠟清洗(De-Wax Cleaner)去蠟清洗(De-Wax Cleaner)
用於矽片去蠟(la)的清洗,去除矽片拋光背部的蠟層,達到工藝需求。

去蠟清洗(De-Wax Cleaner)

最終清洗機最終清洗機
用於矽片最(zui)終(zhong)出貨(huo)前的清洗,根據客戶需求進(jin)行槽體工藝流程的定製,以滿足(zu)金屬、顆粒、產量(liang)等條件。

最終清洗機

雙麵拋光後清洗機(DSPC)雙麵拋光後清洗機(DSPC)
用於雙麵(mian)拋光後的清洗,去除雙麵拋光帶來的顆粒、有機物和(he)金屬,為終清洗作準備,根據客戶需求,定製工藝流程,達到預期潔淨度。

雙麵拋光後清洗機(DSPC)

堿腐蝕機(Alkali Etcher)堿腐蝕機(Alkali Etcher)
用於Lapping後的矽片腐蝕,用堿液對矽片表麵進行(xing)均一可控的腐蝕,已改(gai)善其(qi)TTV表現,根據客戶需求,可兼備一定的清洗功能。

堿腐蝕機(Alkali Etcher)

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堿腐蝕機(Alkali Etcher)

用於Lapping後的矽片腐蝕,用堿液對矽片表麵進行均一可控的腐蝕,已改善其TTV表現,根據客戶需求,可兼備一定的清洗功能。
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產品編號
數量
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庫存:
0
產品描述
參數

產(chan)品(pin)規格(ge):

1、適(shi)用(yong)範(fan)圍(wei):8寸/12寸(cun)矽片
2、工(gong)藝(yi)流程:槽(cao)式批(pi)次清(qing)洗,客(ke)戶(hu)定製;
3、重(zhong)要(yao)控(kong)製(zhi):腐(fu)蝕過(guo)程中(zhong)矽(xi)片轉動(dong),使腐蝕更均(jun)勻(yun);
4、產能:依(yi)據(ju)工藝流(liu)程(cheng)和腐蝕(shi)量;
5、搬運(yun)方(fang)式(shi):可(ke)選(xuan),cassette/cassette less;
6、設備通(tong)訊(xun):SECS/GEM ;

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